ASML lijft deel XTreme in
ASML neemt een groot deel van XTreme Technologies over nu het Japanse moederbedrijf van de EUV-bronontwikkelaar, Ushio, zich terugtrekt op zijn thuisbasis.
Bedrijf: Xtreme Technologies
Topman EUV-bronontwikkelaar XTreme doet stap opzij
Marc Corthout heeft de leiding van EUV-bronontwikkelaar XTreme Technologies ’in goed overleg‘ overgedragen aan Tatsushi Igarashi, afkomstig van XTremes Japanse moederbedrijf Ushio.
XTreme verdubbelt output EUV-bron
XTreme Technologies heeft een EUV-bron ontwikkeld die volcontinu een stabiel vermogen van dertig watt afgeeft bij de intermediate focus, het punt waar de bron overgaat in de scanner.
Imec belicht eerste wafers met NXE:3100
Imec heeft inmiddels de eerste wafers belicht met ASML‘s EUV-scanner van de tweede generatie, de NXE:3100.
EUV-expert ‘beetje bezorgd’ over vermogen bron
Onderzoeksmanager lithografie Obert Wood van Globalfoundries is een ’beetje bezorgd‘ over de sprong in vermogen die EUV-bronnen nog moeten nemen om commerciële productie mogelijk te maken.
