Sematech verwijdert 10 nm vuiltjes
Onderzoekers van Sematech zijn erin geslaagd deeltjes ter grootte van 10 nanometer te detecteren en te verwijderen van een lithografiemasker.
Onderzoekers van Sematech zijn erin geslaagd deeltjes ter grootte van 10 nanometer te detecteren en te verwijderen van een lithografiemasker.
Het industrieonderzoeksconsortium Sematech gaat samen met Tokyo Electron werken aan de ontwikkeling van 3D-interconnectmethoden voor de productie van chips.
Chipmachinefabrikant ASML, Sematech en het daaraan geaffilieerde ISMI (International Sematech Manufacturing Initiative) gaan een demonstratielaboratorium opzetten in Veldhoven.