ST kiest voor ASML’s lithotoolkit voor sub-30-nm-productie

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

ASML en zijn dochter Brion Technologies zijn een overeenkomst aangegaan met STMicroelectronics om de overgang naar 28- en 22-nanometerproductie te versnellen. Het Silicon Printing Optimization with Lithography Control and Integrated Design-project (Solid) bestrijkt de optimalisatie van het lithografieproces van ontwerp tot productie, de uitbreiding van de gereedschapskist om variabiliteitsreducerende technieken te ontwikkelen en de verkenning van geheel nieuwe litho-oplossingen voor sub-30-nanometerchips. De Fransen zullen in ieder geval ASML‘s bron-maskeroptimalisatie (Tachyon) en de recent aangekondigde programmeerbare belichting (Flexray) gebruiken om hun ontwikkelcyclus te versnellen. ST gebruikte voor 45-nanometerproductie al enkele van dat soort ASML-tools.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login