René Raaijmakers
8 March 2006

Nikon claimt de eerste immersiemachine te hebben geleverd. De Japanse machinebouwer zou de natte lithografische scanner hebben geïnstalleerd bij Toshiba, zo beweert het Amerikaanse blad EE Times. Het gaat om de NSR-S609B, een scanner die 193 nm ArF-laserlicht gebruikt in combinatie met een lensopening (NA) van 1,07. Deze machine werd vorig jaar zomer al aangekondigd. De S609B is gericht op de massaproductie van geheugenchips met 55 nm details en de ontwikkeling van 45 nm-chips. Toshiba zou de technologie gebruiken voor 55 nm-NAND-flashgeheugens.

Toshiba is de eerste chipfabrikant die immersie gebruikt in massaproductie.

EE Times spreekt van een mijlpaal. ’Nog niet zo lang geleden gold immersie slechts als nieuwigheidje. Nu maakt de industrie zich serieus klaar om een grote overstap te maken van droge 193 nm-lithografie naar 193 nm-immersie voor chips met 65 nm details en kleiner.‘ Naast Toshiba hebben ook AMD, Chartered, IBM, Samsung, TI en TSMC natte lithografie op hun roadmap gezet. Alleen Intel zegt te willen doorgaan met droge lithografie tot aan de 45 nm-generatie.

ASML verscheept naar verwachting in maart zijn eerste immersiegereedschap (de Twinscan XT:1700) met hyper-NA-lens. De Veldhovense machinefabrikant zegt een lensopening van 1,20 NA te gebruiken voor deze machine, maar volgens bronnen in EE Times is de eerste machine gespecificeerd op een NA van 1,05.

Net als ASML‘s Twinscan-machines gebruiken de S609B-scanners van Nikon ook twee waferstages. Verder heeft Nikon de zogenaamde Local Fill-technologie die zou helpen om verontreinigingen en door belletjes veroorzaakte defecten te elimineren.