Paul van Gerven
11 December 2018

De ontwikkeling van Intels 7-nanometerproces verloopt voorspoedig, mede dankzij gebruik van euv-lithografie. Dat heeft chief engineering officer Murthy Renduchintala vorige week gezegd op de Nasdaq Investors Conference. Wanneer de chipgeneratie in productie gaat, blijft echter onduidelijk. De introductie van 10-nanometerchips is vertraagd tot volgend jaar, dus als Intel zijn oorspronkelijke roadmap aanhoudt, zouden 10 en 7 nanometer elkaar relatief snel opvolgen.

De problemen met 10-nanometerproductie komen voort uit een agressieve schalingsdoelstelling (met een factor 2,7 ten opzichte van 14-nanometerchips) in combinatie met multipatterning-lithografie. Omdat de chipstructuren ‘wiebelig’ worden afgebeeld, ontstaan er relatief veel fouten. Dat resulteert in slechte opbrengsten, die maar moeizaam verbeteren. Met euv had Intel scherpere afbeeldingen kunnen maken, maar ASML’s technologie was nog te onvolwassen op het moment dat de processormaker een beslissing moest nemen.

Venkata (Murthy) Renduchintala is president van de Technology, Systems Architecture & Client-groep en chief engineering officer bij Intel. Foto: Intel

Intel gaat euv wel toepassen in de productie van 7-nanometerchips, bevestigde Renduchintala. Ook speelt het bedrijf dit keer op safe en gaat het voor een ‘reguliere’ krimpfactor van ongeveer een factor 2 ten opzichte van de 10-nanometergeneratie, minder dan de eerder gecommuniceerde factor 2,4. ‘We zijn buitengewoon tevreden over de voortgang in 7 nanometer en mikken op introductie volgens het oorspronkelijke schema dat we intern aanhouden’, zei Renduchintala, zonder details te geven.

Aan de ene kant wil Intel het liefst wachten tussen knooppunten, om de 10-nanometerinvesteringen maximaal terug te verdienen. Aan de andere kant zit de concurrentie niet stil: AMD heeft een serverprocessor aangekondigd voor 2019 die wordt gemaakt in TSMC’s 7-nanometerproces (equivalent met Intels 10-nanometerproces). Risicoproductie van 5 nanometer start in Taiwan in de tweede helft van 2019.

Daarnaast is de vraag in hoeverre Intel afhankelijk is van ASML voor de timing van zijn 7-nanometer-ramp-up. De Veldhovense machinebouwer zit op maximale euv-productiecapaciteit en kan die niet op korte termijn uitbreiden, al wordt de introductie van een snellere euv-scanner naar voren gehaald. Intel heeft overigens in 2015 al een flinke euv-bestelling gedaan.