Paul van Gerven
9 January 2008

Het Britse Metryx heeft een overeenkomst getekend met Imec om massametrologische applicaties en tools te ontwikkelen voor sub-32-nanometerchipproductie. De Leuvenaren waren kennelijk tevreden met de twee producten die de Britten afgelopen zomer hadden geleverd. ’Massametrologie geeft ons erg goed inzicht in procesontwikkeling en –stabiliteit. We kunnen ermee op sub-32-nanometerniveau zeer nauwkeurig de variaties in depositie- of etsprocessen in kaart brengen. Daarom kunnen we al in een vroeg stadium beoordelen of we op de goede weg zitten‘, zegt Serge Vanhaelemeersch, die leiding geeft aan Imecs afdeling Advanced Materials and Process Steps.

Imec gaat Metryx‘ Mentor-lijn van massametrologietools gebruiken.

Massametrologie behelst het meten van de massaverandering ten gevolge van een ets- of depositieproces. Uit het gewichtsverschil valt nuttige informatie te halen, bijvoorbeeld over de dikte van de opgebrachte dan wel weggeëtste laag. Daarbij halen de tools van Metryx een nauwkeurigheid die overeenkomt met het gewicht van een enkele atoomlaag. De Mentor-productlijn, waar Imec voor is gevallen, is over de hele wereld in fabs te vinden.

’De samenwerking met Imec geeft ons een uitstekend platform om de effectiviteit en veelzijdigheid van de technologie te laten zien‘, zegt CEO Adrian Kiermasz van Metryx. ’Nu de lijndikte onder de 32 nanometer duikt, wordt massametrologie steeds belangrijker. Het meten van massaveranderingen met een precisie van enkele atoomlagen heeft een vlucht genomen en blijft dat doen.‘