Alexander Pil
27 September 2005

Imec heeft op het tweede internationale symposium over immersielithografie een aantal belangrijke vorderingen laten zien. Het Leuvense researchcentrum onderzoekt met zo‘n dertig bedrijven de natte chipproductie. ASML is een van de voornaamste deelnemers aan het partnerprogramma en levert zijn Twinscan XT:1250i-immersiemachine.

Een verbetering is dat de uniformiteit op de wafer twee keer beter is dan de eerste generatie immersiehardware. Dit is het resultaat van betere focuscontrole die ook over de waferrand heen scant. Verder is de dekkingsperformance nu vergelijkbaar met droge 193 nm-lithografie en is het aantal fouten spectaculair gedaald tot 0,037 defecten per vierkante centimeter.

’De resultaten laten zien dat we de struikelblokken voor immersielithografie kunnen oplossen‘, aldus Luc Van den Hove, vice-president van Imec. ’Immersie is een levensvatbare en voor productie geschikte technologie voor de 45 nm-generatie.‘