TSMC start euv-productie als mid-node insertion op 10 nanometer

Author:

Reading time: 1 minute

TSMC is van plan de eerste series 10-nanometerchips met immersielithografie te produceren, maar zodra opportuun euv in te zetten voor de meest complexe lagen. Dat zegt een woordvoerder van ASML naar aanleiding van berichtgeving in EE Times dat TSMC euv-massaproductie pas op het 7-nanometerknooppunt zou toepassen. In dat artikel zegt ASML-manager Frits van Hout dat de Taiwanese foundry de recent bestelde productiescanners gaat gebruiken om ‘7-nanometerproductie voor te bereiden’. Dat berust echter op een misverstand, aldus de woordvoerder. TSMC zal wel degelijk 10-nanometerchips gemaakt met euv vermarkten, ook al worden de eerste series van dat knooppunt met immersie vervaardigd.