Kort nieuws

TSMC maakt 10- en 7-nanometerchips zonder euv

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

TSMC begint eind dit jaar met 10-nanometer- en in 2017 met 7-nanometerproductie, beide vooralsnog zonder gebruik te maken van euv-lithografie. Dat heeft de foundry bekendgemaakt op een roadmapevent in de Verenigde Staten, waarbij EE Times aanwezig was.

De Taiwanezen meldden weer een stukje te zijn opgeschoten met euv: ze hebben nu een of meer machines draaien met een lichtbron van negentig watt. Bij de laatst bekende update was er sprak van tachtig watt. TSMC verwacht eind dit jaar 125 wafers per uur te kunnen verwerken. De voortgang is kennelijk onvoldoende om euv direct bij aanvang van 7-nanometerproductie in te zetten. TSMC moet daarom terugvallen op triple patterning.

Met het bekendgemaakte productieschema lijken de Taiwanezen Intel in te halen, dat onlangs aankondigde 10-nanometerproductie een jaar uit te stellen naar 2017. Daar is volgens analist Mike Demler van de Linley Group echter geen sprake van. Tegen EE Times zei hij dat TSMC’s 10-nanometerchips het meest vergelijkbaar zijn met Intels 14-nanometerchips, die eerder dit jaar al in productie zijn gegaan. Intel behoudt daardoor grosso modo een jaar voorsprong op TSMC, aldus Demler.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content