Warning: Undefined array key "bio" in /home/techwatch/domains/test.bits-chips.nl/public_html/wp-content/plugins/wpcodebox2/src/Runner/QueryRunner.php(126) : eval()'d code on line 13
Author:
Reading time: 1 minute
Op een Deense conferentie presenteerden Molecular Imprints en Toshiba een gezamenlijk paper getiteld ’Nanoimprint applications towards 22 nm CMos devices‘. Uit hun resultaten valt op te maken dat Toshiba nano-imprinttechnologie (NIL) uiterst serieus neemt als kandidaat voor 22-nanometerchips. De Japanse halfgeleiderfabrikant houdt zijn oog ook nog op 193 nm-immersie en EUV.
Eerder dit jaar spraken technologiebaas Martin van den Brink van ASML en lithografiespecialist Kurt Ronse van Imec zich in niet mis te verstane woorden uit tegen NIL (zie Bits&Chips 6). ’Het aanbrengen van laag op laag, de overlay, geeft problemen. Ook is er het probleem van defecten. Die worden als het ware uitvergroot‘, aldus Ronse destijds. Hij herhaalde dit standpunt op Imecs Annual Research Review Meeting (Arrm) half oktober.
De aankondiging van Toshiba blaast NIL echter weer nieuw leven in. Daarnaast blijven andere sub-32-nanometeroplossingen kwakkelen. Single-exposure 193-nanometerimmersie komt te laat en zal waarschijnlijk slechts één generatie meegaan. Double patterning heeft de beste papieren, maar wordt ook geplaagd door overlayproblemen, naast vraagtekens bij cost of ownership. En ASML‘s oogappel EUV komt ondanks indrukwekkende voortgang veel te laat voor 32 nanometer. Sommigen betwijfelen zelfs of EUV ooit rijp wordt voor massaproductie.
