Technieuws

Superlens beeldt sub-50-nm-structuren met 365-nm-licht af

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Onderzoekers van het A*Star-instituut uit Singapore hebben uitgedokterd waarom ’superlenzen‘ tot nu toe zo matig presteren: ze zijn heel gevoelig voor kleine oneffenheden. Met een mooi gladde versie lukt het al om fotolithografisch relevante sub-50-nanometerstructuren te patroneren met UV-licht van 365-nm-licht – ruim onder de diffractielimiet dus.

Superlenzen bestaan uit metamaterialen, die licht via een regelmatig patroon van metallische nanostructuren op een oppervlak dusdanig ’bewerken‘ dat optische wetmatigheden hun geldigheid lijken te verliezen. De werking berust op lichtgevoelige fluctuaties van de elektronenzee in een metaal, oftewel zogenaamde oppervlakteplasmonen.

Na de eerste theoretische beschrijving in 2000 doet de onderzoekswereld verwoede pogingen om een praktisch toepasbare superlens in handen te krijgen. In de praktijk vallen de resultaten echter nogal tegen. Zo bleek licht uit een superlens niet diep door te kunnen dringen in een fotolak, waardoor serieuze fotolithografie geen haalbare kaart leek. De Singaporezen gingen eens kijken hoe dat nou precies komt.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content