Subsidie voor Mems-land en maskerloze lithografie


Warning: Undefined array key "bio" in /home/techwatch/domains/test.bits-chips.nl/public_html/wp-content/plugins/wpcodebox2/src/Runner/QueryRunner.php(126) : eval()'d code on line 13

Author:

Reading time: 1 minute

De researchprojecten Mems-land en Optische Maskerloze Lithografie zijn goedgekeurd binnen het Pôle de Compétitivité (PDC)-initiatief. PDC moet de Nederlandse kennis in nanotechnologie en embedded systemen versterken. Mems-land is een researchproject voor micro-elektromechanische componenten, getrokken door Philips Semiconductors.

Het project Optische Maskerloze Lithografie van ASML gaat om de ontwikkeling van een waferstepper of -scanner die met behulp van arrays van miljoenen spiegeltjes details van 100 nanometer en kleiner op siliciumplakken kan afbeelden. De technologie staat sterk in de belangstelling omdat daarmee de startkosten voor kleine series chips drastisch kunnen dalen.

ASML werkt al jaren aan maskerloze lithografie. Aanvankelijk met de microspiegeltechnologie van het Zweedse Micronic Laser Systems, maar anderhalf jaar geleden kondigden de Veldhovenaren ook een samenwerking aan met Bell Labs. Het gaat om spiegelarrays met een oppervlakte van 8 vierkante micron. In tegenstelling tot de spiegelarrays die Texas Instruments voor projectie-tv en digitale bioscoopprojectoren maakt, is aan- en uitzetten van de pixels niet voldoende. Voor de belichting van chips met microspiegeltjes wil ASML door spelen met fasen en grijswaarde, de scherpte van het geprojecteerde beeld vergroten.

Maskerloze machines bieden kansen voor ASML, maar de uitdagingen zijn groot. Voor veel machineonderdelen is een compleet herontwerp nodig en de computer achter de projector moet fenomenale datastromen aansturen. Ook de lenzenkolom moet op de schop. Een maskerloze machine moet vierhonderd keer kunnen verkleinen. Traditionele steppers en scanners werken met een 4x-verkleiningsstap.