Technieuws

Start-up ontwikkelt bron EUV-lithografie

Alexander Pil
Leestijd: 1 minuut

Energetiq Technology heeft een lichtbron gelanceerd voor extreem ultraviolet (EUV) metrologie. Deze Electrodeless Z-Pinch EUV-source, of EQ-10M, genereert EUV-licht uit een xenon gasplasma en is ontwikkeld voor metrologie (chiptesten), resistontwikkeling en waferinspectie. Volgens de start-up is het instrument een tool om EUV-lithografie voor de volgende generatie halfgeleiderproductie mogelijk te maken. Het Amerikaanse onderzoekcentrum Albany Nanotech heeft eerder dit jaar een Energetiq-machine in zijn lab geïnstalleerd.

De plasmabel is onder normale condities ongeveer een halve millimeter in diameter en levert 13,5 nm EUV-output tot 10 watt. Door de bundel te focussen kan het vermogen oplopen tot maximaal 20 watt. De bron kan continu stralen of knipperen met een frequentie tot 1 kHz.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content