Warning: Undefined array key "bio" in /home/techwatch/domains/test.bits-chips.nl/public_html/wp-content/plugins/wpcodebox2/src/Runner/QueryRunner.php(126) : eval()'d code on line 13
Author:
Reading time: 1 minute
Lithografiedirecteur Bryan Rice van Sematech heeft vorige week een lacune in de ontwikkeling van de EUV-infrastructuur onder de aandacht gebracht. Hij ziet geen partijen werken aan maskerinspectieapparatuur. Zijn organisatie neemt dan ook zelf maar het voortouw. Er moet een consortium uit de grond gestampt worden om de ontwikkelachterstand in commerciële inspectietools voor EUV-maskers weg te werken.
Zo goed als defectvrije fotomaskers zijn noodzakelijk voor EUV-lithografie. Dat op zich is al een flinke uitdaging, want de huidige maskers hebben gemiddeld een defect per vierkante centimeter. Daar blijkt dus nog een commitmentgebrek aan inspectieapparatuur bij te komen. Sematech denkt ruim 200 miljoen dollar te moeten ophalen uit publieke en private fondsen om de geplande pilotlijn voor EUV-productie in 2011 geen gevaar te laten lopen.
Behalve de maskers en bijbehorende tools behoeven ook de reticles en de fotolak verbetering, zei Rices evenknie Kurt Ronse van Imec onlangs op het Imec Technology Forum 2009 in Brussel. Technologiedirecteur Martin van den Brink van ASML toonde zich daar overigens wel optimistisch over het wegwerken van een beruchte EUV-bottleneck, de lichtbron.
