Philips en Xtreme partners in EUV

De twee belangrijkste ontwikkelaars van extreem-ultravioletlichtbronnen, Philips Extreme UV en Xtreme Technologies, bundelen hun krachten om de ontwikkeling van lithografie met dit licht te versnellen. Daarvoor ligt er een principeovereenkomst. Afbeelden met EUV is de potentiële opvolger van immersielithografie.

EUV-litho gebruikt ’licht‘ met een golflengte van 13,5 nanometer. Daarmee zijn kleinere structuren af te beelden dan met de huidige 193-nanometer belichtingstechnologie. Het geringe vermogen van de EUV-lichtbron is nog altijd een knelpunt, ondanks gestage vooruitgang in de afgelopen jaren. Door de lage energie van deze EUV-straling moeten wafers te lang worden belicht. Dat is nadelig voor de doorvoer.

Zowel Philips Extreme UV als Xtreme Technologies hebben inmiddels alfatools afgeleverd. Doordat de gevestigde bedrijven de koppen bij elkaar steken zullen de bètatools minder lang op zich laten wachten. Het Duitse Jenoptik Laser Optik Systeme en het Japanse Ushio hebben ieder de helft van de aandelen in Xtreme Technologies in handen.