Kort nieuws

Oostenrijker Bliem leidt oppervlakte- en materialengroep Arcnl

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Onderzoeksinstituut Arcnl heeft Roland Bliem aangesteld als groepsleider van de nieuwe Materials and Surface Science for EUV Lithography-groep. De Oostenrijker en zijn medewerkers gaan de processen bestuderen die zich voltrekken op oppervlakken in een euv-lithografieomgeving en materialen ontwikkelen die de performance en stabiliteit van euv-lithografie verbeteren, zoals beschermende coatings. Bliem heeft een sterke achtergrond in oppervlakteonderzoek. Tijdens zijn promotietraject bestudeerde hij ijzeroxides aan de Universiteit van Wenen en bij MIT werkte hij aan oxideoppervlakken voor energietechnologie.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content