Ook Canon zet punt achter hoge-indexlitho

In de voetsporen van Nikon stopt Canon met de ontwikkeling van een hoge-indexlithotool. Dat maakte de machinebouwer vandaag bekend op het International Symposium on Immersion Lithography Extensions in Den Haag. ’No market, no tool‘, zo vatte Canons woordvoerder de beweegredenen van zijn werkgever samen. Hierdoor is ASML formeel nog de enige maker van lithoscanners met een hoge-indexprogramma. Volgens ingewijden komt het Veldhovense bedrijf binnenkort echter ook met een mededeling over zijn onderzoeksactiviteiten op dit gebied.

Technisch gezien is hoge-indexlithografie zo goed als klaar voor de massaproductie van chips, op één ding na: de absorptie van de lens. Hoewel in de afgelopen jaren stevige vooruitgang is geboekt, is deze nog niet waar zij moet zijn. Nikon en nu ook Canon hebben de hoop opgegeven dat de gewenste waarde binnen afzienbare tijd wordt bereikt. Zij leggen zich nu volledig toe op double patterning, waarmee de halfgeleiderindustrie de komende generatie 32 nm-chips zal maken. Hoge index komt hiervoor te laat.

Op het genoemde symposium toonde een panel van ASML, AZ Electronic Materials, Intel, Nikon en Samsung zich bovendien optimistisch dat een combinatie van double patterning en ’gewone‘ immersielithografie ook het 22 nm-knooppunt de baas zal kunnen. Dat zal broodnodig zijn, aangezien er in Den Haag ook veel signalen te bespeuren vielen dat EUV-lithografie zijn deadlines niet gaat halen en wederom moet worden doorgeschoven op de International Technology Roadmap for Semiconductors. Volgende week komt hierover meer duidelijkheid op een vergelijkbare bijeenkomst over EUV-litho in het Californische Lake Tahoe.