Kort nieuws

‘Ontwikkeling EUV-lichtbronnen achter op schema’

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Ontwikkelaars van EUV-lichtbronnen zijn er nog niet in geslaagd de zorgen weg te nemen dat zij niet op tijd het vereiste vermogen kunnen leveren. Voor het einde van het jaar moet er nog een factor tien gevonden worden om de roadmaps voor commerciële productie niet in de wielen te rijden. Het ultieme doel – 200 watt voor een doorvoer van 100 tot 150 wafers per uur – is nog verder weg. Dat tekent EE Times op uit de monden van aanwezigen op de SPIE Advanced Lithography-conferentie in San Jose.

Voor Intel is EUV aan de late kant om op 10 nanometer een rol te spelen, zei de lithodirecteur van de chipgigant. Het bedrijf is nu al bezig de ontwerpregels voor 10-nanometerchips vast te stellen, en die hangen af van de gebruikte lithografische techniek. Als halverwege volgend jaar productiewaardige tools beschikbaar zijn, dan maakt EUV nog een goede kans alsnog ingezet te gaan worden.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content