Kort nieuws

Nikon bouwt litholab in Singapore

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Nikon en het Institute of Microelectronics (IME) bouwen gezamenlijk een nieuw lithografielab op de thuisbasis van IME, Singapore. De faciliteit gaat zich richten op droge en immersie-ArF-lithografie voor halfgeleiderstructuren van twintig nanometer en kleiner, met bijzondere aandacht voor multipatterning en directed self-assembly. Beide technieken gelden als alternatieven om sub-twintig-nanometer-chips te fabriceren, mocht EUV niet tijdig beschikbaar zijn. ASML‘s partner Imec heeft vorig jaar al een volledige proceslijn voor zelfassemblage opgezet in zijn cleanroom.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content