Interview

Netjes binnen de lijntjes blijven

René Raaijmakers
Leestijd: 17 minuten

ASML staat voor een formidabele klus. Om de chipwereld in staat te stellen om IC‘s te blijven krimpen, ontwikkelt de Veldhovense lithogigant twee machinelijnen met twee totaal verschillende fysisch-optische uitdagingen. Parallel. Dat is de reden achter de wereldwijde zoektocht naar vijfhonderd R&D-talenten die ASML vorige week aankondigde. Martin van den Brink, directeur marketing en technologie bij ASML, gaat in dit interview uitgebreid in op double patterning-lithografie en de overgang naar extreem ultraviolet. In een tweede deel komen maskerloze lithografie, de acquisitie van Brion en alternatieve afbeeldingsmethodes ter sprake. Dat vervolg publiceren we in het komende nummer.

Voordeel van een gesprek met Martin van den Brink: alles wat hij zegt, is relevant. Je hoeft als journalist nauwelijks te schrappen. Nadeel van een gesprek met Martin van den Brink: alles wat hij zegt, is relevant, dus wat gooi je weg van de 11.700 woorden als je gemiddeld voor een interview zo‘n 2500 woorden plaatst?

Het stond eigenlijk al een beetje vast: alles wat de turbulentie rondom ASML verduidelijkt, zouden we publiceren. Het huidige succes van de marktleider in lithografie voor chips en de impact op de regio Eindhoven-Leuven rechtvaardigen dat. Martin van den Brink stuurt een formidabele onderzoek- en ontwikkelorganisatie aan en slaat dit jaar bij benadering een half miljard R&D-dollars stuk.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content