Reading time: 1 minute
Author:
Suss Microtec, een Duitse machinebouwer en procesontwikkelaar actief in de halfgeleiderindustrie, en contractresearcher Amo hebben een nano-imprintproces geschikt gemaakt om zes inch wafers volledig te bedrukken. Tot op heden was het met deze techniek alleen mogelijk om kleinere plakken te voorzien van structuurtjes kleiner dan vijftig nanometer. Dit brengt toepassing van nano-imprintlithografie een stap dichterbij toepassing, bijvoorbeeld in de fabricage van leds, optische of magnetische informatiedragers, of geprinte elektronica.
Het basisproces dat Suss gebruikt, heeft het in licentie gekregen van Philips Research. Substrate conformal imprint lithography (Scil) houdt een beetje het midden tussen Nil met rigide stempels, die een hoge resolutie haalt, en zachte stempels, die vooral geschikt is om grote oppervlakken te bewerken. Bij Scil is het stempelmateriaal zacht, maar aangebracht op een harde drager. Er wordt geen kracht uitgeoefend bij het stempelen. Capillaire krachten zorgen ervoor dat de ’inkt‘ op het substraat in de mal trekt.
