Achtergrond

Modelgebaseerd ontwerp van regelaars in lithoscanners

Wilbert Alberts, Ramon Schiffelers, Jeroen Voeten
Leestijd: 7 minuten

Samen met het Esi en de TUE heeft ASML een multidisciplinaire modelgebaseerde ontwikkelomgeving op poten gezet. In dit artikel beschrijven zij hoe de omgeving helpt om de toenemende complexiteit van de Veldhovense lithografiesystemen het hoofd te bieden.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content