MIT-onderzoekers produceren 36 nm-lijntjes met interferentielithografie

Researchers van het MIT hebben een interferentiepatroon gebruikt om 36-nanometerstructuren af te beelden. Aan de basis van hun werk staat een zogenaamd fotochroom materiaal, dat door belichting van ondoorzichtig naar transparant kan worden geschakeld. De onderzoekers gebruikten die eigenschap om een fotomasker te maken. Ze schenen twee kleuren licht op het fotochroom materiaal en het interferentiepatroon daarvan zorgde ervoor dat op zeer regelmatige afstanden een transparant lijntjespatroon ontstond. Dit patroon laat zich vervolgens afbeelden op een substraat met fotolak.

Met absorptiemodulatie, zoals de Amerikanen hun techniek noemen, is het mogelijk om lijnstructuren te maken die ongeveer tien keer smaller zijn dan de kleinste van de twee gebruikte golflengtes. Ook de afstand ertussen is in die orde van grootte. Met conventionele lithografische technieken is een factor vier de limiet. In hun testopstelling gebruikten de onderzoekers licht van 633 en 325 nanometer – vandaar de lijnbreedte van 36 nanometer.

De Amerikanen denken dat absorptiemodulatie geschikt is als nanopatroneringstechniek voor onder meer optische en biomedische toepassingen. Daartoe richten ze een bedrijf op. Hoewel ze nog geen complexere structuren hebben afgebeeld, denken ze dat hun vinding ook ingang kan vinden in de halfgeleiderindustrie.