Technieuws

Lithografie overgeslagen bij fabricage transistor

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Onderzoekers van het Singaporese Institute of Bioengineering and Nanotechnology hebben de gebruikelijke lithografische stappen voor het maken van nanopatronen weten te omzeilen. Met een gefocusseerde elektronen- of ionenstraal in aanwezigheid van procesgassen deponeerden zij materialen direct op een substraat, zonder maskers en oppervlakvullende depositiestappen. Zij gebruikten deze direct-write-methode om transistoren en logische poorten te maken op basis van zinkoxide nanodraden. De methode komt van pas om snel nieuwe transistorconcepten te kunnen testen, schrijven de Singaporezen in het wetenschappelijke tijdschrift Nanotechnology, zeker nu het einde van de traditionele planaire technologie in zicht lijkt en alternatieven gescreend moeten worden op hun merites.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content