Reading time: 1 minute
Author:
Sematech en het College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) in Albany richten samen een centrum op voor de ontwikkeling van lithografische materialen, met name voor EUV-lithografie. Het Patterning Center of Excellence biedt halfgeleiderbedrijven en hun toeleveranciers een platform en de infrastructuur om materialen en tooling te testen en EUV-designs te valideren.
âDoor de hoge R&D-kosten is het erg moeilijk geworden om steeds kleinere chipstructuren te produceren. Centra als dit zorgen ervoor dat de R&D-inspanningen kunnen worden voortgezet en tegelijk het kostenplaatje op een redelijk niveau kan worden gehoudenâ, licht Warren Montgomery van CNSE het initiatief toe.
ASML en Imec richtten vorig jaar al een gezamenlijk lithocentrum op.
