Kort nieuws

Japans EUV-project krijgt vervolg

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Volgens Semiconductor International krijgt de Japanse Extreme Lithography System Development Association (EUVA) een opvolger. Het consortium zou later deze maand het groene licht krijgen van de Japanse overheid om nog dit jaar een doorstart te maken. Over een eventuele naamswijziging is nog niets bekend gemaakt.

De EUVA legde zich met name toe op de ontwikkeling van een EUV-lichtbron. Op de slotconferentie in maart presenteerde zij er eentje zestig watt op basis van laserplasma en een van twintig watt op basis van ontlading-geproduceerd plasma. Dat is niet genoeg voor commerciële productie, waarvoor 115 watt vaak genoemd wordt als doelstelling. Daarom hebben de deelnemers zich opnieuw gemeld bij de belangrijkste geldschieter, de Japanse overheid. In EUVA stopte het ministerie van Economie, Handel en Industrie zo‘n 79 miljoen dollar, verdeeld over vijf jaar. Behalve de usual suspects Canon en Nikon doen er nog minimaal drie andere Japanse bedrijven mee aan de opvolger van EUVA.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content