Interesse voor ASMI’s ALD-kennis sterkt management

Leestijd: 2 minuten

Een niet bij naam genoemde Taiwanese foundry heeft ASM Internationals Pulsar-machinelijn voor atoomlaagdepositie (ALD) gekozen om 28-nanometerchips met zogenaamde hoge-k-diëlektrica te fabriceren. Omdat zowel TSMC als rivaal UMC druk doende is de 28-nanometerprocestechnologie uit te ontwikkelen, is speculeren over de identiteit van ASMI‘s nieuwe liefde zinloos. Beide foundry‘s hebben geweigerd commentaar te geven, maar uit het persbericht blijkt dat de relatie vier jaar teruggaat.

De Taiwanese interesse lijkt uit te wijzen dat opname van ALD in het chipproductieproces in toenemende mate noodzakelijk wordt. Hoewel de technologie al aanzienlijke tijd beschikbaar is, hielden chipmakers zo lang mogelijk de boot af. Het ALD-proces is namelijk relatief traag.

Bij het keren van de dertig nanometer in de halfgeleiderwereld, zijn met atomaire precisie gestapelde nieuwe materialen in de gate van transistoren onontbeerlijk geworden, in ieder geval voor sommige typen chips. Deze materialen dienen als isolerend laagje tussen de gatestapel en het geleidende kanaal en zitten dus in het hart van de schakelaars. Decennialang werd daarvoor siliciumoxide gebruikt, maar nu zijn hoge-k-diëlektrica in zwang. Meestal hebben die een hafniumcomponent.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login