Warning: Undefined array key "bio" in /home/techwatch/domains/test.bits-chips.nl/public_html/wp-content/plugins/wpcodebox2/src/Runner/QueryRunner.php(126) : eval()'d code on line 13
Author:
Reading time: 1 minute
Op het Semi Industry Strategy Symposium vorige week in Half Moon Bay (Californië) heeft Intel ’s werelds eerste volledig bedrukte 450 millimeter wafer getoond. De processormaker gebruikte voor de lithografie een machine van Molecular Imprints, een Amerikaanse firma die nano-imprintlithografie (NIL) naar voren probeert te schuiven als alternatief voor optische litho. Bij gebrek aan optische machines die met het grotere waferformaat overweg kunnen, wordt momenteel NIL gebruikt bij de ontwikkeling van 450-millimetertechnologie. Volgens Molecular Imprint kunnen zijn machines 24-nanometerpatronen neerleggen met een line edge roughness van 2 nanometer (3 sigma) en een critical dimension uniformity van 1,2 nanometer (3 sigma). Over de overlayprestaties – een bekend probleempunt van NIL – geeft het bedrijf geen data.
