Kort nieuws

Intel investeert in EUV-specialist

Alexander Pil
Leestijd: 1 minuut

Intel wil de ontwikkeling van extreem ultraviolet (EUV)-lithografie versnellen. Kapitaalschieter Intel Capital investeert daarom in Xtreme Technologies. Deze Duitse EUV-specialist lanceerde onlangs een EUV-bron die een vermogen haalt van 800 watt. Voor massaproductie met EUV moet er rond 2010 een bron beschikbaar zijn van ongeveer 1 kW, schat Xtreme. EUV is een kandidaat voor de productie van de volgende generatie chips met details van 32 nm. Financiële details van de investering zijn niet bekendgemaakt.

Xtreme Technologies is een van de deelnemers aan More Moore. Dit driejarige lithografische samenwerkingsverband onder leiding van ASML ontving 23,25 miljoen euro aan subsidie ontving uit Brussel. Andere betrokken bedrijven zijn Carl Zeiss, Philips en Schott Lithotec. Zij krijgen ondersteuning van wetenschappelijke instellingen als CEA Leti, FOM Rijnhuizen, Fraunhofer, Imec, TNO en de TU Delft.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content