Technieuws

Intel haalt 15 nm met natte lithografie

Alexander Pil
Leestijd: 1 minuut

In laboratoriumomgeving is het Intel gelukt om details van 15 nanometer te printen met een 193-nm-immersiemachine. Dat zei de chipgigant gisteren op zijn jaarlijkse Research@Intel Day. Normaal gezien is het met natte litho niet mogelijk om nauwkeuriger te gaan dan 35 nm. Met double patterning of computational lithografie verwacht Intel toch de 22 nm-grens te kunnen slechten. Ook lijkt 15 nm haalbaar in productieprocessen, beweert Intels productie- en technologieverantwoordelijke Mike Mayberry in EE Times.

Hoewel Intels technologie nog in de R&D-fase zit, kan het EUV-lithografie in de wielen rijden. De techniek met extreem ultraviolet licht is de beoogde kandidaat voor de chipgeneratie rond 16 nm. Op dit moment komen de alfatools echter nog niet verder dan 24 nm, weet Mayberry. De EUV-aanpak worstelt met lichtbronnen, resists en maskerfouten.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content