Intel: 10- en 7-nanometerchips mogelijk zonder euv

Intel acht het doenlijk om kosteneffectief 10- en 7-nanometerchips te produceren zonder euv-lithografie te gebruiken. Volgens Intel-fellow Mark Bohr is het mogelijk om de transistordichtheid te blijven verhogen in een dusdanig tempo dat de rap oplopende kosten voor multipatterning worden gecompenseerd. De kosten per transistor blijven dan dalen.

Dat het kan, wil echter niet zeggen dat Bohr zijn neus zou ophalen voor euv. De vertraagde technologie zou het aantal maskerstappen fors verlagen en de procesontwikkeling versimpelen – twee aspecten waarin Bohr ‘zeer geïnteresseerd’ zei te zijn. ‘Helaas is euv er nog niet klaar voor’, aldus de baas van Intels procesintegratie-inspanningen.