Warning: Undefined array key "bio" in /home/techwatch/domains/test.bits-chips.nl/public_html/wp-content/plugins/wpcodebox2/src/Runner/QueryRunner.php(126) : eval()'d code on line 13
Author:
Reading time: 1 minute
Imec is begonnen de NXE:3100-scanner van ASML aan te sluiten in zijn cleanroom. Dat maakt het Leuvense onderzoeksconsortium vandaag bekend op de SPIE Advanced Lithography-conferentie in San Jose. In ieder geval Samsung ging Imec al voor; in totaal heeft ASML acht bestellingen gekregen voor de tool, de eerste waarmee ook IC-fabrikanten zelf mee gaan spelen. Imec had al een van de twee bètatools staan.
De installatie markeert de volgende stap in het gereedmaken van EUV-technologie voor commerciële halfgeleiderproductie, al haalt ook de nieuwe tool niet de daarvoor benodigde doorvoer van minimaal zestig plakken per uur. Dit ondanks een dubbele-stageconstructie, een betere transmissie en een sterkere lichtbron vergeleken met de eerste onderzoekstool. ASML‘s roadmap voorziet in de levering van echte productiemachines vanaf 2014.
