Imec en Applied onderzoeken interconnecties

Imec en Applied Materials zijn gestart met de gezamenlijke ontwikkeling van 32 en 22 nm-procestechnologieën voor koperen interconnecties met een lage k-waarde. De partners maken gebruik van geavanceerde Applied-apparaten. De Producer CVD-systemen van de Amerikaanse machinebouwer komen naar de Leuvense cleanroom, inclusief depositietools voor Black Diamond II. Dit op siliciumoxide gebaseerde materiaal is bruikbaar als dunne isolatielaag in schakelingen en heeft een k-waarde van 2,5.

’Dit cruciale ontwikkelprogramma bouwt voort op Applied Materials‘ uitgebreide expertise in interconnectietechnologie, vooral op het gebied van lage-k diëlektrica en koperen geleiders‘, aldus Luc Van den Hove, vicepresident van Imec. ’Met de interconnectieapparatuur van Applied hebben we de mogelijkheid om de back-end procesflow te ontwikkelen voor de 32 nm-generatie en verder. Eind dit jaar verwachten we de eerste resultaten.‘