IBM zet in op immersie voor 22 nanometer

IBM denkt dat lithografie met extreem ultraviolet licht nog niet genoeg ontwikkeld is op het moment dat de markt om 22-nanometerchips vraagt. Big Blue wil immersielithografie met 193-nanometerlicht daarom oprekken tot deze generatie. Naar verwachting scharen IBM‘s lithografiepartners AMD, Chartered Semiconductor, Infineon en Micron zich ook achter deze aanpak. Ontwikkelaars van EUV-technologie hopen op een adoptie bij de productie van chips op 32 nanometer. Er missen echter nog belangrijke delen van de technologie, met name op het gebied van fotolak en lichtbronnen.

IBM zal immersie aan het eind van dit jaar in productie nemen voor het maken van chips op 45 nanometer. Op dit moment gebruikt het bedrijf nog droge lithografie voor zijn 65-nanometerproductie. Het bedrijf gebruikt hiervoor waferscanners van ASML. Naar verwachting zal het bedrijf met de Veldhovenaren blijven werken voor het verdere inkrimpen van de technologie.