Gigaphoton houdt vast aan ambitieuze EUV-roadmap

Gigaphoton claimt een nieuwe mijlpaal te zijn gepasseerd in de ontwikkeling van een productiewaardige EUV-bron. Volgens het Japanse bedrijf is de 43 watt die het nu uit zijn laser-produced plasma-bron (LPP) weet te halen een goed uitgangspunt om later dit jaar 150 watt performance te halen, gevolgd door een 250 watt high-volume systeem in 2015. ASML stelt zich ten doel dit jaar zeventig wafers per uur te kunnen belichten, waarvoor circa 105 watt nodig is. Zonder details over de prestaties van beide bronnen zijn de ambities van Gigaphoton en ASML echter moeilijk te vergelijken.