Your cart is currently empty!
Binnenstebuiten
‘Geen mainstream toepassingen voor nano-imprintlitho’
Leestijd: 5 minuten
Nano-imprinttechnologie (NIL) staat sinds 2003 op de International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). Toch moest het in een recente update een stapje terugdoen. Het samenwerkingsverband heeft meer vertrouwen in maskerloze lithografie voor de 22- en 16-nanometerstructuren. Het genadeschot blijft uit, maar het lijkt niet erg waarschijnlijk dat NIL zijn weg zal vinden naar de productie van geheugen- en processorchips. Een eenzame dood sterft de techniek echter niet. Er zijn legio andere toepassingen.
Nano-imprintlithografische machinebouwer Molecular Imprints (MII) wil natuurlijk niets liever dan dat ’zijn‘ technologie zijn gang vindt naar fabs en foundry‘s. Na de beslissing van de ITRS duurde het dan ook niet lang voordat het bedrijf de tegenaanval inzette. Helaas voor de Amerikanen mochten ze geen details prijsgeven, maar vol trots lieten ze begin dit jaar weten een tweetal Imprio‘s aan ’een grote geheugenfabrikant‘ te hebben verkocht. Bronnen binnen elektronicablad EE Times identificeerden de klant als het Japanse Toshiba.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.
Login
Related content
