Technieuws

Fotontweeling zet scherpterecord

Paul van Gerven
Leestijd: 2 minuten

Researchers van het Georgia Institute of Technology (GIT) zijn erin geslaagd om structuren van 65 nanometer af te beelden met een laser. Normaalgesproken zijn daar peperdure lithomachines of e-beamschrijvers voor nodig. De 3D-multifotontechniek is niet nieuw, maar het lukte de Amerikanen voor het eerst de afdrukken onder de 100 nanometer te trekken. Ze denken dat hun onderzoek kan leiden tot goedkopere fabricagemethoden van fotonische, microfluïdische en zelfs elektronische chips.

De crux van het onderzoek zit hem in de synthese van een molecuul dat tien keer efficiënter licht absorbeert dan vergelijkbare fotoactieve verbindingen. Wanneer een dun laagje van 4,4‘-bis(di-n-butylamino)bifenyl (DAPB) op een substraat wordt blootgesteld aan laserlicht, hardt het uit. Maar dat gebeurt alleen dáár waar de stof twee fotonen tegelijk absorbeert. De kans dat de laser de lichtdeeltjes tegelijk ’aanbiedt‘, is verreweg het grootste in het brandpunt. Daarbuiten is het een echte toevalstreffer. Daarom is de nauwkeurigheid waarmee de lichtbron afbeeldt erg hoog.

Het absorptievermogen van DAPB stelt de researchers in staat met een relatief lage lichtintensiteit te werken. De uitgeharde polymeren beschadigen daarom niet. Als het substraat na de belichtingsprocedure in een bad met ontwikkelingsvloeistof gaat, lost onbelicht DAPB op, terwijl de uitgeharde ketenmoleculen intact blijven zitten waar ze zitten.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content