Foto-emissie-elektronenmicroscoop verbetert inspectie EUV-maskers

De Duitse instrumentenmaker Focus en de universiteiten van Bielefeld en Mainz hebben binnen het More Moore-programma een foto-emissie-elektronenmicroscoop ontwikkeld met een oplossend vermogen van 20 nanometer. De foto-emissietechnologie is minder destructief voor het monster dan conventionele elektronenmicroscopie. Dit principe gebruikt röntgen- of ultravioletstraling in plaats van hoogenergetische elektronen om het object te belichten. Het foto-elektrische effect maakt hier elektronen uit vrij en daarmee vormt de microscoop een beeld.

More Moore is een Europees project onder leiding van ASML dat zich richt op de struikelblokken van extreem-ultravioletlithografie. Vanuit het bedrijfsleven zijn onder meer Philips, Sagem en Zeiss betrokken. De academische wereld partnert onder meer via het CNRS, Fom, het Fraunhofer Instituut, Imec, TNO en de universiteiten van Birmingham en Delft.

Met de nieuwe microscoop kunnen de ontwikkelaars fouten met een afmeting van 50 nanometer opsporen onder de coating van een blanco EUV-masker. Tot nu toe was dit volgens de makers niet mogelijk. Scanning-elektronenmicroscopie dringt niet door de meerdere lagen van de coating heen, terwijl transmissie-elektronenmicroscopie het materiaal beschadigt.