‘EUV-vertraging zou 28-nanometer-node kunnen verlengen’

De halfgeleiderindustrie zou het 28-nanometerknooppunt wel eens kunstmatig kunnen oprekken in afwachting van de productierijpheid van EUV-lithografie. Dat zegt fab-manager Rutger Wijburg van Globalfoundries tegen Electronics Weekly. EUV-lithografie, een paradepaardje van ASML, kampt met vertragingen, waardoor het onzeker is of de technologie op tijd ten tonele verschijnt voor 20-nanometerchips. Mogelijk doet ASML daar woensdag mededelingen over bij de presentatie van de kwartaalcijfers. In plaats van alternatieven als double patterning op te pakken, zouden chipmakers er ook voor kunnen kiezen de start van 20-nanometerproductie uit te stellen.

Globalfoundries is begonnen de productie van 28-nanometerchips op te schalen. Het bedrijf zegt de hoge-k-metalen-gate-technologie (HKMG) nu echt goed in de vingers te hebben en verwacht daarom een voorspoedige ramp up. Op 32 nanometer kampte de foundry nog met opbrengstproblemen, hetgeen sommige kenners toeschreven aan toepassing van een gate-first-proces. Dat wijkt af van wat HKMG-pionier Intel en concurrent TSMC gebruiken; die werken met gate-last. Volgens Wijburg is er echter niks mis met gate-first. Desondanks schakelt Globalfoundries voor 20 nanometer over op gate-last.