EUV onafwendbaar, Mapper reageert

Vorige week verplaatste zich een internationale groep vakjournalisten in een touringcar tussen Imec, ASML, de High Tech Campus en hun hotels. In die bus was er geen man of vrouw te vinden die de afgelopen jaren geen forse scepsis jegens EUV-lithografie had ontmoet. Scepsis die overigens bij gebrek aan on-the-record-bereidheid zelden de wandelgangen en borreltafels heeft verruild voor papier, maar blijkbaar toch zo overtuigend dat menig perspersoon er nog altijd een hard hoofd in heeft dat chipmakers zich van 13,5 nanometer ’licht‘ gaan bedienen.

Toch hielden de journalisten zich bij de EUV-presentaties van ASML- en Imec-medewerkers muisstil. Waarom? Omdat de teerling is geworpen: de halfgeleiderindustrie heeft zich afgelopen jaar in de ITRS de facto achter EUV geschaard. Daarmee valt er louter nog op technische gronden wat te speculeren over het aanstaande falen van het monsterproject. Maar wie kan nu beweren dat ingenieurs voor een onmogelijke opgave staan? Vooralsnog blijven zij gestage vooruitgang boeken (zie pag 16), ook al is er nog behoorlijk wat te doen voordat de machines voldoende plakken per uur kunnen verstouwen. ASML is de eerste om dat toe te geven, maar de beelden die het toonde van vijf EUV-machines in aanbouw spraken boekdelen.