Epitaxiale silicium zonnecel haalt 20 procent rendement

Fraunhofer ISE-spin-off Nexwafe toont deze week op de EU PVSEC-conferentie in Hamburg een epitaxiale silicium zonnecel met twintig procent rendement. Nexwafe maakt wafers door een laag silicium uit de gasfase te deponeren die even dik is als een reguliere wafer en deze vervolgens los te halen van zijn ondergrond. Dit proces is aanzienlijk goedkoper dan het gebruikelijke zagen, omdat er minder materiaalverlies optreedt. Toch kunnen de plakken probleemloos naar keuze n-of p-type monokristallijnen silicium wafers vervangen, zegt Nexwafe.