Interview

Een zonnige toekomst voor ALD

Paul van Gerven
Leestijd: 12 minuten

Het opbrengen van gateoxides met atoomlaagdepositie (ALD) door Intel is pas het begin van een opmars die deze dunnelagentechnologie gaat maken, vindt Erwin Kessels van de TU Eindhoven. De jonge ALD-specialist heeft alvast verschillende pannetjes op het vuur staan. De meest opzienbarende: zonnecellen. Bits&Chips sprak met de aanstormende onderzoeker ter gelegenheid van de achtste editie van de ALD 2008-conferentie.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content