Cymer levert krachtige EUV-lichtbron aan ASML

De levering van Cymers lichtbron voor extreem ultraviolet laserlicht aan ASML is een mijlpaal op weg naar de ontwikkeling van een volwaardige EUV-scanner. De bron heeft een kracht van 75 watt. Cymer verwacht dit kwartaal nog 100 watt te bereiken, wat een doorvoer van zestig siliciumplakken met diameters van 300 mm mogelijk zou maken. Dit is een aantal dat nodig is om chipproductie met EUV-licht economisch acceptabel te maken, stelt ASML in een persbericht.

Willen chipfabrikanten EUV echt omarmen, dan moet de doorvoer echter nog flink hoger. EUV-scanners zijn immers peperduur. De prijs van een dergelijk fotolithografisch apparaat zal boven de 40 miljoen euro komen te liggen. Daarvoor koop je ook een Airbus A320 of een Boeing 737. Hoe sneller een EUV-projector zijn plakken kan verwerken, hoe beter. Een bron van 200 watt zou de doorvoer verhogen tot boven de 100 wafers per uur, iets wat EUV-lithografie in de buurt brengt van wat de huidige diepultraviolette scanners bereiken.

De EUV-bron van Cymer vuurt microscopische druppels gesmolten tin door een vacuümkamer. Een hoogvermogen infrarode laser volgt en verdampt de druppels met 50 duizend lichtpulsen per seconde. Daarbij ontstaat een tinplasma met hoge temperatuur dat licht met een golflengte van 13,5 nm uitstraalt.