Kort nieuws

Computationele EUV-litho maakt debuut bij ASML

Paul van Gerven
Leestijd: 1 minuut

Brion heeft zijn Tachyon-modelleringssoftware uitgebreid voor gebruik in ASML‘s eerste lichting EUV-scanners, de Twinscan NXE:3100. Het pakket simuleert het belichtingsproces met EUV-fotonen, zodat chipfabrikanten hun machines optimaal kunnen instellen en tijd en kosten besparen in de aanlooptijd naar massaproductie. ’De industrie moet bij de overstap naar EUV door een stevige leercurve. ASML en Brion helpen met Tachyon NXE de lengte en kosten daarvan verminderen‘, zegt algemeen manager Jim Koonmen van Brion.

ASML heeft eerder dit jaar aangegeven in het derde kwartaal de eerste EUV-preproductietool te gaan verschepen. Met de aankondiging van Brions nieuwe softwarepakket om de optische nukken van die apparaten te temmen, lijken de Veldhovenaren daarvoor op schema te liggen. Zes chipmakers hebben een EUV-preproductietool besteld. ASML plant om de laatste halverwege 2011 geleverd te hebben.

ASML-dochter Brion blijft aan Tachyon NXE sleutelen om de mogelijkheden van computationele EUV-lithografie uit te breiden. In de toekomst zal de software ook geschikt worden gemaakt voor de volgende generatie EUV-scanners, de NXE:3300, en zal er een op zichzelf staand product worden gelanceerd.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content