Nieuws

Chipmakers houden litho-opties tegen het licht

Paul van Gerven
Leestijd: 6 minuten

Sommige chipmakers zitten te springen om EUV-lithografie, maar ze moeten opnieuw uitstel slikken. Ondertussen stoomt Mappers e-beamtechnologie door en maakt een tot voor kort nog academische patroneringstechniek – directed self-assembly – opeens alle tongen los.

Ieder jaar brengt de internationale vakvereniging van optici, de SPIE, iedereen bij elkaar die iets te maken heeft met lithografie in de halfgeleiderindustrie. Van universitaire onderzoekers tot chipmakers en machinebouwers, in drommen komen ze vijf dagen naar het Californische San Jose – en echt niet alleen om aan de winter op het noordelijk halfrond te ontsnappen. De Advanced Lithography-conferentie is een van de zeldzame momenten waarop sleutelspelers een boekje opendoen over de vooruitgang die ze hebben geboekt. Wie wil weten of lithografen de wet van Moore nog weten bij te benen, gaat naar San Jose.

Dit jaar was het extra spannend. Het huidige werkpaard immersielithografie  loopt op zijn laatste benen, maar noch gedoodverfd opvolger EUV noch een alternatief heeft zich tot dusver ontwikkeld tot productiewaardig niveau. Zouden dit jaar dan eindelijk de verlossende woorden worden gesproken? Zouden de doorbraken worden gemeld die IC-schaling de komende jaren op de rails houden? Een overzicht van de belangrijkste ontwikkelingen.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content