Technieuws

CEO Molecular Imprints: ‘Nano-imprint klaar voor CMos’

Paul van Gerven
Leestijd: 2 minuten

Topman Mark Melliar-Smith van machinebouwer Molecular Imprints zegt in een interview met Semiconductor International dat nano-imprintlithografie (NIL) klaar is voor het echte werk. Hij verwacht dat de techniek nog dit jaar zal worden toegepast in de fabricage van harddisks. Geheugenchips, of althans enkele lagen daarvan, laten een paar jaar langer op zich wachten.

Technologiebaas Martin van den Brink van ASML en de lithostrateeg Kurt Ronse van Imec lieten vorig jaar in Bits&Chips weten dat zij geen mainstream toepassingen weggelegd zien voor NIL. Zij wezen daarbij eensgezind op de problemen met de overlay, het aanbrengen van laag op laag. Zij achtten het niet waarschijnlijk dat NIL ooit de gewenste nauwkeurigheid zou halen. Daarnaast is de lithografische nieuwkomer relatief gevoelig voor defecten. De verhouding tussen matrijs en afdruk is 1:1, waardoor deze niet verdoezeld worden. Bij optische lithografie gebeurt dat wel: het geprojecteerde beeld is vier keer kleiner dan de ’gaatjes‘ in het fotomasker.

Volgens Melliar-Smith valt het allemaal wel mee met die defectgevoeligheid. Hij wijst erop dat NIL niet meer dan een logische voortzetting is van het onderzoek naar fotomaskers. ’De industrie heeft hard gewerkt aan Optical Proximity Correction (OPC) om met optische lithografie steeds kleinere afbeeldingen te blijven maken. Bij OPC komen ook structuurtjes in het masker om de hoek kijken die kleiner zijn dan de afbeeldingen. Het is dus niet eerlijk fotolithografie als een 4:1-afbeeldingstechniek voor te stellen die defecten door de verkleining wegpoetst.‘ Over de overlayproblematiek liet de Amerikaanse CEO zich niet uit in het interview.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content