Atomen aanharken om betere EUV-spiegels te maken

Een EUV-scanner maken die de moeite waard is, is moeilijk. Te moeilijk volgens sommigen. Sceptici wijzen op problemen van economische aard, meestal met betrekking tot de cost of ownership of de doorvoersnelheid. Hun meer technisch ingestelde geestverwanten richten hun pijlen op wat zij noemen fundamentele fysische obstakels. Heden ten dage zijn dat vooral de sterkte en levensduur van de lichtbron, het vrijwel defectvrij produceren van maskers of het gelijktijdig bereiken van een acceptabele resolutie, gevoeligheid en line-edge roughness.

Wie er de vakliteratuur van enkele jaren geleden op naslaat, zal het opvallen dat er destijds nog wel wat meer ’obstakels‘ stonden genoemd. Niet zelden viel dan ook de term ’EUV-spiegel‘, maar tegenwoordig lees je daar nauwelijks meer over. Dat is wellicht een verdienste van het Extreme UV Multilayer Optics-project (XMO) van Fred Bijkerks groep aan het Fom-instituut voor Plasmafysica Rijnhuizen in samenwerking met optiekspecialist Carl Zeiss SMT. Hoewel nog niet alle hobbeltjes zijn gladgestreken, hebben de fysici belangrijke stappen gezet om multilaagspiegels te fabriceren die EUV-licht goed genoeg reflecteren om lithografie mee te bedrijven.