Kort nieuws

ASML wast Nikon de oren

René Raaijmakers
Leestijd: 2 minuten

ASML kan met zijn nieuwste Twinscan XT:1900i-immersiescanner lijntjes printen die 37 nanometer uit elkaar liggen. De Veldhovenaren maakten dit resultaat bekend op de technologieconferentie SPIE in het Amerikaanse San José. Tot nu toe lag de grens voor immersielithografie op 40 nanometer (ook met de 1900i). De Twinscan XT:1900i is de eerste machine die een 193 nm-optisch systeem met een lensopening van 1,35 bevat. In de tweede helft van 2007 gaat dit belichtingsapparaat naar een tiental klanten.

In een persverklaring wijst Martin van den Brink, ASML‘s directeur marketing en technologie, op een tweede doorbraak. Eén ASML-klant is er voor het eerst in geslaagd om met EUV lijntjes van 32 nm te printen. De enige EUV-machines staan momenteel in Leuven bij Imec en bij Albany Nanotech in Albany, New York.

Nikon vertoont intussen krampachtige trekjes. Het Japanse bedrijf verloor in 2002 het leiderschap in de lithografiemarkt aan ASML. In een marketingoffensief riep het vorige week dat het ‘s werelds eerste systeem voor dompellithografie had geleverd aan klanten. Deze NSR-S610C 193 nm immersiescanner met een lensopening van 1,3 is in staat om 45 nm-chips te produceren.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one and enjoy all the benefits.

Login

Related content