ASML verscheept duizendste KrF-lithomachine

Het duizendste lithografiesysteem met een KrF-bron heeft de ASML-fabriek verlaten. De jubileummachine is verscheept naar een niet nader genoemde Koreaanse geheugenfabrikant. De Veldhovenaren hebben de throughput van hun KrF-apparaten jaarlijks met zo‘n tien procent opgevoerd naar 150 wafers van 300 mm per uur op dit moment. Later dit jaar moet er een variant op de markt komen die 165 plakken per uur kan verwerken.

Het licht van een kryptonfluoridebron (KrF) heeft een golflengte van 248 nanometer. ASML manipuleert het licht zodanig dat zijn machines details kunnen printen van minder dan 100 nm. Deze worden gebruikt voor de minder kritieke onderdelen van een chip met structuurtjes tussen de 90 tot 250 nm. De KrF-gebaseerde lithografie verzorgt ongeveer 30 procent van de lagen in een 65 nm-chip. Voor de 45 nm-generatie groeit dat naar 40 procent, aldus ASML. De ArF-variant met argon heeft een golflengte van 193 nm en komt zo tot nauwkeurigheden van 38 nm. Deze ArF-bronnen worden toegepast voor de meest kritieke lagen in een chip. Voor het ’grovere‘ werk gebruiken chipfabrikanten een I-Line-bron met een golflengte van 365 nm.

KrF-systemen winnen aan belang. ’De niet-kritische I-Line-lagen verschuiven langzaam richting het KrF-domein‘, zegt CEO Dan Hutcheson van marktonderzoeker VLSI Research. ’Bovendien hebben fabrikanten steeds meer materiaaltoevoegingen nodig om de transistorprestaties te regelen. Een KrF-bron verzorgt hiervoor typisch de belichting. We verwachten dat de vraag naar KrF-machines de komende jaren met gemak met dubbele cijfers zal groeien. Tegen 2012 zullen er jaarlijks zo‘n driehonderd stuks worden verscheept.‘