ASML steekt geld in ontwikkeling euv-fotolak

Drie Nederlandse universiteiten en ASML zijn een onderzoeksprogramma gestart om nieuwe materialen te ontwikkelen die gevoelig zijn voor euv-straling. Drie promovendi en drie postdocs gaan bij de Universiteit Utrecht, de Vrije Universiteit en de Universiteit Twente zowel theoretisch als experimenteel aan de slag met fotogevoelige materialen gebaseerd op anorganische nanodeeltjes. Tot nu toe worden vooral organische verbindingen toegepast als fotolak.De publiek-private samenwerking is een zogenaamd Chemical Industrial Partnership Programme (Chipp). NWO betaalt de helft van het budget à 1,7 miljoen euro, ASML de andere helft.